La diseñadora montillana Celia Espejo Sánchez ha llevado uno de sus diseños hasta la New York Fashion Week, después de que su propuesta fuera seleccionada entre las diez elegidas por un jurado de la Escuela Superior de Diseño de Sevilla y de la Cátedra Internacional de Moda Flamenca de Flamentex. El diseño, perteneciente a su colección Filipa, ya había desfilado anteriormente en la pasarela Premier Lunar, organizada por la propia universidad, y fue posteriormente seleccionado para participar en la pasarela neoyorquina.
La propuesta parte de la inspiración flamenca, pero no reproduce el traje de gitana tradicional. El reto planteado a los estudiantes era reinterpretar la moda flamenca como una forma de vestir también presente en otros contextos, como una boda, un bautizo o cualquier evento. En la selección, Celia considera que se valoraron especialmente la originalidad de la propuesta y su capacidad para ajustarse a la inspiración planteada.
Celia se encuentra en el último curso de sus estudios de Diseño de Moda, el segundo de Cátedra, y compagina su formación con el trabajo en sus dos firmas: gavia9.studio, centrada principalmente en invitadas y eventos, y d.carmelastudio (Doña Carmela), especializada en moda flamenca a medida. De cara al próximo curso, tiene previsto continuar su formación con un Máster en Técnicas de Alta Costura: Artesanía y Moda de Autor, mientras prepara nuevas colecciones y proyectos.
En la entrevista nos cuenta cómo surgió esta oportunidad, qué supone para ella haber llegado con su diseño hasta Nueva York y cuáles son sus próximos objetivos.
Fotos: Celia Espejo Sánchez de su colección Filipa
